유전체
유전체 필름은 광학과 반도체, 그외에 수많은 산업에 사용되고 있습니다. Filmetrics는 이와 같이 산업에 쓰이는 모든 필름을 측정 할 수 있는 제품을 취급하는 회사입니다. 다음은 유전체 필름이 가장 흔하게 사용되는 용도입니다:
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SiO2 – SiO2- Silicon dioxide는 가장 쉬게 측정 할 수있는 물질중에 하나인데 그 이유는 거의 모든 빛을 파장을 흡수하지 않는 특성 (k=0)과 화학양론적인 특성 (Si:O 비율이 1:2에 가깝습니다.) 때문입니다. 열이 가해진 SiO2는 다루기가 쉬워서 두께와 굴절률을 측정할때 기준지수로 사용 합니다. Filmetrics는 3nm에서 1mm 사이의 두께를 측정 할수있는 제품을 취급하고 있습니다.
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Si3N4 – Silicon Nitride의 silicon과 nitrogen의 비율이 3:4를 이루는 경우가 드물기 때문에 silicon nitride 필름의 두께를 측정하는 것은 다른 유전체 필름의 두께를 측정 하는 것보다 어렵습니다. 또한 silicon nitride 필름의 두께를 측정할 때에는 굴절률도 함께 측정 해야합니다. 필름 측정 과정에 산소가 뜻하지 않게 개입되며 silicon oxynitride을 결성합니다. 산소의 개입은 측정 과정을 더 어렵게 만들지만 다행히 저희 제품은 silicon nitride 필름의 완전한 측정을 클릭 한번으로 신속하게 측정합니다!
귀하의 유전체 응용에 대해 자사의 박막 전문가에게 문의 하시길 바랍니다.
Filmetrics는 무상의 샘플 측정을 제공 합니다 - 결과는 보통 1-2일 안에 가능 합니다.
측정 보기
실리콘 Nitride 박막은 유전체, 패시베이션(passivation)층 또는 마스크 재료로서 반도체 산업에서 널리 사용 됩니다. 이 샘플에서 자사는 F20-UV 장비를 이용하여 SixNy 박막의 두께, 굴절률, 흡수율을 성공적으로 측정 하였습니다. 하나의 흥미로운 문안은 SixNy 박막의 광학적 특성은 박막의 화학량론(stoichiometry) 에 상관 관계가 있다는 것 입니다. Filmetrics의 특허 실리콘 nitride 분산모델과 더불어 F20-UV를 이용하여 Si-rich, Si-poor 또는 화학량론(stoichiometry )에 상관없이 SixNy의 두께 및 광학적 특성을 쉽게 측정합니다.측정 셋업:
사용된 레서피:
측정결과:
